Hyppää sisältöön
    • Suomeksi
    • På svenska
    • In English
  • Suomeksi
  • In English
  • Kirjaudu
Näytä aineisto 
  •   Etusivu
  • LUTPub
  • Diplomityöt ja Pro gradu -tutkielmat
  • Näytä aineisto
  •   Etusivu
  • LUTPub
  • Diplomityöt ja Pro gradu -tutkielmat
  • Näytä aineisto
JavaScript is disabled for your browser. Some features of this site may not work without it.

Optimisation of alumina coating by atomic layer deposition (ALD) process as a protective scheme for CsPbBr3 perovskite quantum dots

Pathiraja Mudalige Dona, Sanduni Thiyaga (2018)

Katso/Avaa
Master's Thesis .pdf (24.34Mb)
Lataukset: 


Diplomityö

Pathiraja Mudalige Dona, Sanduni Thiyaga
2018

School of Engineering Science, Kemiantekniikka

Kaikki oikeudet pidätetään.
Näytä kaikki kuvailutiedot
Julkaisun pysyvä osoite on
https://urn.fi/URN:NBN:fi-fe201903209506

Tiivistelmä

All-inorganic perovskite quantum dots (PeQDs) have emerged as a new class of semiconductor nanocrystals with outstanding optical characteristics. Two main practical problems have to be addressed before implementing PeQDs in energy harvesting architectures: anion-exchange and stability under various stringent conditions. Nanocomposites of QD/AlOx assembled using an atomic layer deposition (ALD) process has been developed in the recent years for the growth of amorphous alumina (AlOx) as a new protection technique for these semiconductor nanocrystals, that acts as a gas and ion diffusion barrier. This thesis work has optimized the ALD process using different ALD modes of operation. Each deposition cycle of the optimized ALD process comprised of a TMA pulse (t1), diffusion (t2), purging (t3), a H2O pulse (t4), diffusion (t5) and purging (t6). Optimal conditions were found by varying the ALD process parameters that resulted in an uniform coating, which protects the QDs from degradation. The optimal reaction times were found to be t1=0.010 s, t2=5 s, t3= 10 s, t4=0.010 s, t5=5 s, and t6=60 s.
Kokoelmat
  • Diplomityöt ja Pro gradu -tutkielmat [13812]
LUT-yliopisto
PL 20
53851 Lappeenranta
Ota yhteyttä | Tietosuoja | Saavutettavuusseloste
 

 

Tämä kokoelma

JulkaisuajatTekijätNimekkeetKoulutusohjelmaAvainsanatSyöttöajatYhteisöt ja kokoelmat

Omat tiedot

Kirjaudu sisäänRekisteröidy
LUT-yliopisto
PL 20
53851 Lappeenranta
Ota yhteyttä | Tietosuoja | Saavutettavuusseloste