Hyppää sisältöön
    • Suomeksi
    • På svenska
    • In English
  • Suomeksi
  • In English
  • Kirjaudu
Näytä aineisto 
  •   Etusivu
  • LUTPub
  • Diplomityöt ja Pro gradu -tutkielmat
  • Näytä aineisto
  •   Etusivu
  • LUTPub
  • Diplomityöt ja Pro gradu -tutkielmat
  • Näytä aineisto
JavaScript is disabled for your browser. Some features of this site may not work without it.

Modeling of magnetic field distribution and optimization of a magnetron for magnetron sputtering technology

Gorshanov, Vadim (2019)

Katso/Avaa
Thesis_VadimGorshanov_final.pdf (1.628Mb)
Lataukset: 


Diplomityö

Gorshanov, Vadim
2019

School of Engineering Science, Laskennallinen tekniikka

Kaikki oikeudet pidätetään.
Näytä kaikki kuvailutiedot
Julkaisun pysyvä osoite on
http://urn.fi/URN:NBN:fi-fe2019053017848

Tiivistelmä

Current work focuses on applications of computer simulations for design optimization of a magnetron sputtering source. In order to perform the optimization, a program was written that allows to model all stages of magnetron sputtering: calculation of magnetic field depending on the magnetron geometry, simulation of a magnetron discharge, and simulation of sputtering and deposition of atoms. Use of these simulations allows to optimize parameters of a magnetron for a more effective target material usage, and choose the best parameters for deposition of films with given uniformity with the least possible target material waste.
Kokoelmat
  • Diplomityöt ja Pro gradu -tutkielmat [9988]
LUT-yliopisto
PL 20
53851 Lappeenranta
Ota yhteyttä | Lähetä palautetta | Tietosuoja | Saavutettavuusseloste
 

 

Tämä kokoelma

JulkaisuajatTekijätNimekkeetKoulutusohjelmaAvainsanatSyöttöajatYhteisöt ja kokoelmat

Omat tiedot

Kirjaudu sisäänRekisteröidy
LUT-yliopisto
PL 20
53851 Lappeenranta
Ota yhteyttä | Lähetä palautetta | Tietosuoja | Saavutettavuusseloste